国产半导体路在何方 瓦森纳与光刻机你了解多少

尽管形势严峻，但好消息也不是没有。就在本月的月初，上海微电子装备(集团)有限公司正式对外披露，其将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。虽然28nm相比国际上主流的7nm以及更先进的5nm还有几代的差距，但是从90nm到28nm所实现的技术跃迁，意义已经是非常重大了。

半导体之路，还要继续走下去

这么多年来，尽管我们一直受到国外的技术封锁，不也走过来了么？就拿离我们比较近的一个例子来说，2015年2月18日美国商务部发表公告称，使用了两款英特尔微处理器芯片的天河二号系统和早先的天河一号A系统，“被认为是用于核爆炸活动”。4月，奥巴马政府即宣布，决定禁止英特尔向中国4家国家超级计算机机构出售“至强”(XEON)芯片。

但是在第二年，中国拥有完全自主知识产权，使用RISC架构国产处理器的神威太湖之光，便以更强的性能和更低的功耗登顶世界超算TOP500，实现了超算领域的再一次技术突破。

而在芯片制造以及光刻机领域，我们同样有很长的一段路要走，也必须得坚持走下去。

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（编辑：西安站长网）

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